早期對(duì)密間距的定義是：以每30米、100米甚至300米的距離上采集一個(gè)保護(hù)電位數(shù)值。由于檢測(cè)方法的進(jìn)步，特別是微電子技術(shù)在檢測(cè)設(shè)備上的廣泛應(yīng)用，*地方便了大量檢測(cè)數(shù)據(jù)的存儲(chǔ)，使得當(dāng)前的而檢測(cè)間距要小很多。當(dāng)前密間距的典型定義為每1-2米測(cè)量一個(gè)電位值，也有定義為3米進(jìn)行一次電位測(cè)量。這使得密間距電位檢測(cè)的方法比以前精細(xì)了許多，其操作復(fù)雜程度和難度能夠在可以接受的程度之內(nèi)。

  從電位檢測(cè)的技術(shù)方法上講，對(duì)裸管所進(jìn)行的檢測(cè)更為細(xì)致，其間距取決于管道的埋深，*大的檢測(cè)間距不應(yīng)大于3.5倍管道上覆土層的厚度，以達(dá)到連續(xù)無(wú)間斷的測(cè)量目的。對(duì)于有涂層的管道來(lái)說(shuō)，所有的檢測(cè)間距取決于管道的埋深涂層的絕緣電阻以及土壤中電解液的電阻等管道和環(huán)境綜合因素。其關(guān)系要遠(yuǎn)比裸管復(fù)雜，檢測(cè)間距是涂層電阻率與電解液電阻率比值函數(shù)。在通常的情況下保守的檢測(cè)方法可以直接采用裸管的而檢測(cè)間距。測(cè)量陰極保護(hù)電位方法中，使用數(shù)字萬(wàn)用表和飽和硫酸銅參比電極進(jìn)行測(cè)量，萬(wàn)用表的一支筆通過(guò)測(cè)試樁內(nèi)的連線與管道相連，另一支表筆連接到參比電極上，參比電極放置在測(cè)試樁附近管道上方的地面上，而管道真實(shí)保護(hù)電位是指管體到與防腐層接觸的土壤之間的電位差也是管道的極化電位，如果將管道外防腐層表面到放置參比電極之間的電位差。